THE EFFECT OF X-RAY RADIATION ON THE CHARACTERISTICS OF PO-ROUS SILICON BASED PHOTOSENSITIVE STRUCTURES
- Authors: Erofeev A.S.1, Latukhina N.V.1
-
Affiliations:
- Samara University
- Issue: No 1 (18) (2021)
- Pages: 151-154
- Section: Physics
- Published: 20.01.2022
- URL: https://vmuis.ru/smus/article/view/9838
- ID: 9838
Cite item
Full Text
Abstract
In this paper, a comparative analysis of the voltage-current characteristics (VAC) of photosensitive structures with porous silicon before and after exposure to X-ray radiation was performed. The elements were manufactured according to the same technological route, were exposed to X-ray radiation with a power of 6.9 keV. According to the results of the experiment, after exposure to X-ray radiation, the short-circuit current and the output power increase from 2 to 4 times.
Full Text
Введение
В работе [1] приведен анализ влияния факторов открытого космоса на характеристики ФЭП на основе структур с пористым кремнием. Показано, что испытуемые структуры обладают хорошей радиационной стойкостью [1, 2]. Это можно объяснить тем, что в пористом слое происходит локализация групп радиационных дефектов, их рекомбинация с возможностью выхода на поверхность и накопление носителей заряда.
Целью данной работы было исследование влияния рентгеновского излучения на свойства аналогичных фоточувствительных структур. Электромагнитное излучение рентгеновского диапазона является неотъемлемой частью космических лучей и существенным воздействующим фактором открытого космоса.
Условия и методы исследования
Были изготовлены 6 образцов по одинаковой технологии на кремниевых подложках с текстурированной поверхностью (рис.1). В результате травления текстурированной поверхности пористый слой представляет собой систему параллельных столбиков с четырехгранными пирамидальными вершинами, отделенных друг от друга щелевидными порами. Травление по глубине идет достаточно равномерно, образуя систему вертикальных параллельных пор глубиной в десятки микрометров. Такая структура имеет расширенную поглощающую поверхность, в то же время электрическое сопротивление поверхностного слоя увеличивается незначительно [3]. Облучение образцов проводилось на установке «ДРОН-2», использовалось излучение кобальтового катода с длиной волны 0,179 нм, энергия облучения 6.9 кэВ. Вольт-амперные характеристики измерялись до и после облучения, по полученным данным рассчитывалась отдаваемая мощность.
Рисунок 1. РЭМ-изображение текстурированной поверхности и схема образования щелевидных пор.
Результаты и их обсуждение
Большинство образцов увеличило свой ток короткого замыкания от 2.0 до 4.1 раз после облучения. Это можно объяснить тем, что в пористом слое происходит образование дефектов, в основном пар Френкеля, на нескольких дефектных центрах, в которых происходит рекомбинация дефектов с последующим выходом из объема образца. В глубине образца из-за накопления дефектов скапливаются носители заряда, вносящие вклад в ток к.з.
Рисунок 2. Графики ВАХ (слева) и зависимости отдаваемой мощности от напряжения (справа) для 5 образца. Синие линии соответствуют значениям тока и мощности до облучения, розовые - после облучения.
По графикам (рис.2) видно, что ток короткого замыкания на 5ом образце. увеличился в 4.1 раза, максимальная отдаваемая мощность – в 4,7 раза
Приведена таблица с значениями плотности тока к.з. до и после облучения.
Таблица 1. Параметры образцов до и после облучения
№ | П, % | Доза*10^-12, Дж/кг | Плотность тока до облучения, мА/см^2 | Плотность тока после облучения, мА/см^2 | Отношение плотностей тока после и до облучения |
1 | 60,2 | 2.94 | 1.5 | 3.0 | 2.0 |
2 | 15,6 | 2.30 | 1.9 | 7.0 | 3.7 |
3 | 16,2 | 2.35 | 23.9 | 7.0 | 0.29 |
4 | 14,2 | 2.24 | 6.4 | 6.3 | 0.9 |
5 | 15,7 | 1.58 | 1.9 | 7.8 | 4.1 |
6 | 31,5 | 1.48 | 3.5 | 8.6 | 2.5 |
По данным таблицы можно предположить, что существует зависимость между пористостью образца (П – пористость) и ростом тока к.з. после облучения. На рисунке 3 представлена экспериментальная зависимость увеличения тока к.з. от пористости. Видно, что с ростом пористости увеличение тока к.з. после облучения становится менее значительным. Исключение составляют две самых нижних точки на графике относятся к сломанным образцами 3 и 4, для них отношение токов выпадает из общей зависимости. Наибольшее увеличение тока к.з. получили образцы с пористостью 15.6% и 15.7%.
Рисунок 3. Зависимость изменения тока к.з. от пористости образца
Заключение
После облучения Co c эн. 6.9 кэВ для большинства исследуемых образцов наблюдается увеличение тока короткого замыкания, что согласуется и с данными телеметрии образцов ФЭП, проходящих испытания в открыт ом космосе [1]. и ранее полученными данными о влиянии жесткого рентгеновского излучения на фотоэлектрические характеристики структур с пористым кремнием [4].
About the authors
Aleksey Sergeevich Erofeev
Samara University
Author for correspondence.
Email: a.yerofyeyev@mail.ru
student IV course of the bachelor’s program of Samara University
Russian Federation, 443086, Russia, Samara, Moskovskoye Shosse, 34Natalya Vilenovna Latukhina
Samara University
Email: natalat@yandex.ru
professor of the Solid State Physics and Nonequilibrium Systems Department of the Samara University
Russian Federation, 443086, Russia, Samara, Moskovskoye Shosse, 34