THE EFFECT OF X-RAY RADIATION ON THE CHARACTERISTICS OF PO-ROUS SILICON BASED PHOTOSENSITIVE STRUCTURES

Cover Page

Cite item

Full Text

Abstract

In this paper, a comparative analysis of the voltage-current characteristics (VAC) of photosensitive structures with porous silicon before and after exposure to X-ray radiation was performed. The elements were manufactured according to the same technological route, were exposed to X-ray radiation with a power of 6.9 keV. According to the results of the experiment, after exposure to X-ray radiation, the short-circuit current and the output power increase from 2 to 4 times.

Full Text

Введение

В работе [1] приведен анализ влияния факторов открытого космоса на характеристики ФЭП на основе структур с пористым кремнием. Показано, что испытуемые структуры обладают хорошей радиационной стойкостью [1, 2]. Это можно объяснить тем, что в пористом слое происходит локализация групп радиационных дефектов, их рекомбинация с возможностью выхода на поверхность и накопление носителей заряда.

            Целью данной работы было исследование влияния рентгеновского излучения на свойства аналогичных фоточувствительных структур. Электромагнитное излучение рентгеновского диапазона является неотъемлемой частью космических лучей и существенным воздействующим фактором открытого космоса.

Условия и методы исследования

Были изготовлены 6 образцов по одинаковой технологии на кремниевых подложках с текстурированной поверхностью (рис.1). В результате травления текстурированной поверхности пористый слой представляет собой систему параллельных столбиков с четырехгранными пирамидальными вершинами, отделенных друг от друга щелевидными порами. Травление по глубине идет достаточно равномерно, образуя систему вертикальных параллельных пор глубиной в десятки микрометров. Такая структура имеет расширенную поглощающую поверхность, в то же время электрическое сопротивление поверхностного слоя увеличивается незначительно [3]. Облучение образцов проводилось на установке «ДРОН-2», использовалось излучение кобальтового катода с длиной волны 0,179 нм, энергия облучения 6.9 кэВ. Вольт-амперные характеристики измерялись до и после облучения, по полученным данным рассчитывалась отдаваемая мощность.

 

Рисунок 1. РЭМ-изображение текстурированной поверхности и схема образования щелевидных пор.

 

 

Результаты и их обсуждение

             Большинство образцов увеличило свой ток короткого замыкания от 2.0 до 4.1 раз после облучения.  Это можно объяснить тем, что в пористом слое происходит образование дефектов, в основном пар Френкеля, на нескольких дефектных центрах, в которых происходит рекомбинация дефектов с последующим выходом из объема образца. В глубине образца из-за накопления дефектов скапливаются носители заряда, вносящие вклад в ток к.з.

 

   

Рисунок 2. Графики ВАХ (слева) и зависимости отдаваемой мощности от напряжения (справа) для  5 образца. Синие линии соответствуют значениям тока и мощности до облучения, розовые - после облучения.

По графикам (рис.2) видно, что ток короткого замыкания на 5ом образце. увеличился в 4.1 раза, максимальная отдаваемая мощность – в 4,7 раза

Приведена таблица с значениями плотности тока к.з. до и после облучения.

 

Таблица 1. Параметры образцов до и после облучения

П, %

Доза*10^-12, Дж/кг

Плотность тока до облучения, мА/см^2

Плотность тока после облучения, мА/см^2

Отношение плотностей тока после и до облучения

1

60,2

2.94

1.5

3.0

2.0

2

15,6

2.30

1.9

7.0

3.7

3

16,2

2.35

23.9

7.0

0.29

4

14,2

2.24

6.4

6.3

0.9

5

15,7

1.58

1.9

7.8

4.1

6

31,5

1.48

3.5

8.6

2.5

 

По данным таблицы можно предположить, что существует зависимость между пористостью образца (П – пористость) и ростом тока к.з. после облучения. На рисунке 3 представлена экспериментальная зависимость увеличения тока к.з. от пористости. Видно, что с ростом пористости увеличение тока к.з. после облучения становится менее значительным. Исключение составляют две самых нижних точки на графике относятся к сломанным образцами 3 и 4, для них отношение токов выпадает из общей зависимости. Наибольшее увеличение тока к.з. получили образцы с пористостью 15.6% и 15.7%.

Рисунок 3. Зависимость изменения тока к.з. от пористости образца

 

Заключение

После облучения Co c эн. 6.9 кэВ для большинства исследуемых образцов наблюдается увеличение тока короткого замыкания, что согласуется и с данными телеметрии образцов ФЭП, проходящих испытания в открыт ом космосе [1]. и   ранее полученными данными о влиянии жесткого рентгеновского излучения на фотоэлектрические характеристики структур с пористым кремнием [4]. 

×

About the authors

Aleksey Sergeevich Erofeev

Samara University

Author for correspondence.
Email: a.yerofyeyev@mail.ru

student IV course of the bachelor’s program of Samara University

Russian Federation, 443086, Russia, Samara, Moskovskoye Shosse, 34

Natalya Vilenovna Latukhina

Samara University

Email: natalat@yandex.ru

professor of the Solid State Physics and Nonequilibrium Systems Department of the Samara University

Russian Federation, 443086, Russia, Samara, Moskovskoye Shosse, 34

Supplementary files

Supplementary Files
Action
1. JATS XML

Copyright (c) 2022 Proceedings of young scientists and specialists of the Samara University

Creative Commons License
This work is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.

Proceedings of young scientists and specialists of the Samara University

ISSN 2782-2982 (Online)

Publisher and founder of the online media, journal: Samara National Research University, 34, Moskovskoye shosse, Samara, 443086, Russian Federation.

The online media is registered by the Federal Service for Supervision of Communications, Information Technology and Mass Communications, registration number EL No. FS 77-86495 dated December 29, 2023

Extract from the register of registered media

Regulation of the online media

Editor-in-chief: Andrey B. Prokof'yev, Doctor of Science (Engineering), associate professor,
head of the Department of Aircraft Engine Theory

2 issues a year

0+. Free price. 

Editorial address: building 22a, room 513, Soviet of Young Scientists and Specialists, 1, Academician Pavlov Street, Samara, 443011, Russian Federation.

Address for correspondence: room 513, building 22a, 34, Moskovskoye shosse, Samara, 443086, Russian Federation.

Tel.: (846) 334-54-43

e-mail: smuissu@ssau.ru

Domain name: VMUIS.RU (Domain ownership certificate), Internet email address: https://vmuis.ru/smus.

The previous certificate is a printed media, the journal “Bulletin of Young Scientists and Specialists of Samara University”, registered by the Office of the Federal Service for Supervision of Communications, Information Technologies and Mass Communications in the Samara Region, registration number series PI No. TU63-00921 dated December 27, 2017.

© Samara University

This website uses cookies

You consent to our cookies if you continue to use our website.

About Cookies